2011年8月26-27日，由中国真空学会薄膜专业委员会主办，南昌航空航天大学协办的TFC’11全国薄膜技术学术研讨会在江西南昌市富豪酒店举行。本次会议是一次较大规模的学术活动，会议研讨、展示了近两年来我国薄膜材料与技术的最新成就，来自国内的近200名专家学者围绕薄膜技术领域的最新进展展开深入交流与讨论，表面工程事业部汪爱英研究员课题组的杨巍博士、陈锋光工程师以及蔡建、张学谦两位硕士研究生参加了此次会议。

杨巍博士在会上做了“DLC膜厚度对镁基表面DLC/MAO复合膜层性能的影响”报告，主要介绍了表面工程事业部碳基薄膜实验室在轻合金表面DLC改性领域的研究现状，详细阐述了新开发的DLC/MAO复合工艺技术特点与产业化推广前景，探讨了DLC膜厚度对镁基表面DLC/MAO复合膜层力学性能、摩擦学性能的影响规律，引起了参会专家的浓厚兴趣，并在会后与多位企业代表进行了交流。陈锋光工程师基于表面工程事业部碳基薄膜实验室在硬质润滑涂层领域的工作积累，在会上以“阴极电弧TiAl(C/N)涂层的摩擦学性能研究”为题，提出TiAlN/TiAlCN涂层体系在保持传统TiAlN高硬度、高抗氧化温度的同时，可有效降低摩擦系数，减小切削阻力，并与参会专家围绕技术细节做了较为详细的探讨，一致认为该涂层体系及工艺是对硬质润滑涂层开发及工程化应用的有益探索。此外，硕士研究生蔡建和张学谦分别在会上做了“Ar流量对FCVA沉积ta-C薄膜结构和摩擦性能的影响”和“高功率脉冲磁控溅射制备类石墨薄膜的研究”的报告，获得参会专家的广泛关注。

会议期间，表面事业部研究人员通过口头报告扩大了碳基薄膜实验室的知名度和影响力，会后与多位同行专家的交流对宣传宁波材料所具有积极意义。