专利名称：一种用于磁控溅射晶界扩散的稀土合金靶材及其制备方法
专利(申请)号：CN202111414265.2
申请日期：2021-11-25
授权日期：2024-08-06 00:00:00
发明人：郑波; 陈仁杰; 郭帅; 丁广飞; 范晓东; 冯智俊; 范庆伟; 闫阿儒
其他发明人：
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所